GAF 展出經典與當代作品,並著重於培育新銳藝術家。除了展覽之外,還規劃了講座、簽名會、工作坊及座談會。畫廊的場地選定在冰廠園區內的「藍廳」。 翻新設計由漢諾威建築學教授貝恩德·羅卡爾(Bernd Rokahr)負責。這座面積約260平方公尺的畫廊,視畫作尺寸而定,最多可展出120幅畫作。
GAF 的主辦單位是「漢諾威攝影促進協會」(Verein zur Förderung der Fotografie in Hannover e.V.),該協會亦與漢諾威應用科技大學及 FREELENS 協會共同籌辦「Lumix 青年新聞攝影節」。該攝影節每兩年於六月舉行,屆時將把世博園區轉變為一座龐大的攝影展廳,吸引超過 30,000 名參觀者前來觀賞。